Cible de pulvérisation de tungstène
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Cible de pulvérisation de tungstène

Cible de pulvérisation de tungstène

Type de matériau: tungstène
Symbole : W
Poids atomique : 183,84
Numéro atomique: 74
Couleur/apparence : blanc grisâtre, brillant, métallique
Conductivité thermique : 174 W/mK
Point de fusion (degré) : 3 410
Coefficient de dilatation thermique : 4,5 x 10-6/K

Description des produits

Tungsten Sputtering Target

 

Cible de pulvérisation de tungstène

Une cible de pulvérisation en tungstène est un matériau métallique de haute-pureté utilisé dans les processus PVD (Physical Vapor Deposition) pour déposer de minces films de tungstène sur des substrats.


En raison de son point de fusion élevé, de sa faible résistivité et de son excellente stabilité thermique, le tungstène est largement utilisé dans les applications avancées d’électronique et de revêtement.

 

Les cibles de pulvérisation en tungstène sont largement utilisées dans les industries des semi-conducteurs, des écrans et du revêtement de couches minces oùhaute pureté, dépôt stable et qualité de film uniformesont critiques.

 

Chez Ehisen, nous fournissonscibles en tungstène de haute-densité et ultra-haute puretéconçu poursystèmes de pulvérisation magnétron, garantissant des performances stables et une longue durée de vie dans des environnements de production exigeants.

 

👉 Tailles personnalisées, solutions de collage et livraison rapide disponibles

 

Spécifications des produits

 

Pureté W>99.95%
Densité >19,1 g/cc
Rond Diamètre inférieur ou égal à 14 pouces
Épaisseur supérieure ou égale à 1 mm
Bloc Longueur inférieure ou égale à 32 pouces
Largeur inférieure ou égale à 12 pouces
Épaisseur supérieure ou égale à 1 mm
Taper: Cibles de pulvérisation planaires et rotatives en tungstène
 

Vous trouverez ci-dessous les tailles les plus standard de nos cibles de pulvérisation en tungstène. Si vous ne trouvez pas la taille dont vous avez besoin, n'hésitez pas à nous contacter.

Épaisseur Largeur Longueur Alignement Verticale Finition de surface
8.0~16.0 10~450 10~500 <0.05 <2o  
3.0~8.0 10~450 10~800 <0.05 <2o  
1.0~3.0 10~450 10~1200 <0.05 <2o  

Tungsten Sputtering Target

Tungsten Sputtering Target

 

Applications typiques des cibles de pulvérisation en tungstène

 

high-purity-tungsten-target

 

 

Avantages clés de nos cibles en tungstène

 

 

 

● Haute pureté (jusqu'à 99,999 %)
Garantit une contamination minimale dans les processus de semi-conducteurs

● High Density Structure (>19,2 g/cm³)
Fournit un taux de pulvérisation uniforme et une épaisseur de film stable

● Faible génération de particules
Améliore le rendement dans les applications de revêtement de précision

● Microstructure stable
Assure des performances constantes sur de longs cycles de fonctionnement

● Solutions de collage personnalisées
Plaque de support en cuivre avec liaison indium disponible

tungsten-sputtering-target-disc

 

Comment choisir la bonne cible en tungstène

 

La sélection de la bonne cible de pulvérisation de tungstène dépend de :

● Niveau de pureté → semi-conducteur vs revêtement industriel

● La taille des grains → affecte l'uniformité du film

● Lié ou non-lié → performances de dissipation thermique

● Taille de la cible → compatible avec les équipements de pulvérisation

👉 Nous fournissons une assistance à la sélection gratuite en fonction des conditions de votre processus

PVD Thin Film Deposition Materials List - Stanford Advanced Materials

 

 

 

Ehisen

about us

 

livraison d'emballage

 

 

livraison d'emballage

 

Matériaux d'emballage :

Des matériaux d'emballage anti-statiques,-résistants à l'humidité et aux chocs-sont généralement utilisés, tels que la mousse plastique, les caisses en bois, les cartons, etc.

Méthode d'emballage :

Mettez le produit dans le matériau d'emballage et fixez-le avec du remplissage pour éviter que la cible ne bouge ou ne soit endommagée pendant le transport.

packing

Logo et étiquette :

Mettez un logo et une étiquette clairs sur l'emballage, y compris le modèle cible, les spécifications, la quantité, la date de production, le numéro de lot et d'autres informations.

Mode de transport :

Les produits sont généralement transportés par voie aérienne ou terrestre. Pendant le transport, il faut veiller à éviter que la cible ne soit affectée par de fortes vibrations, collisions ou changements de température.

Processus de service

 

 

Nos processus de service

 

Enquête

1

>>

Déterminer le produit

2

>>

Commander des échantillons

3

>>

Confirmer la commande

4

>>

Transport multicanal-

5

>>

Services après-vente

6

FAQ

 

 

 

FAQ

 

 

01.Quelle cible de tungstène de pureté dois-je choisir ?

Pour les applications de semi-conducteurs, 99,99 % ou 99,999 % sont recommandés. Une pureté inférieure peut être utilisée dans le revêtement général.

02.Quelle est la durée de vie typique d’une cible de pulvérisation en tungstène ?

Cela dépend de la densité de puissance et des conditions du processus, mais les cibles à haute densité-garantissent une utilisation stable et plus longue.

03.Fournissez-vous des cibles en tungstène collé ?

Oui, nous proposons des plaques de support en cuivre avec liaison indium pour une meilleure dissipation thermique.

04.Pouvez-vous personnaliser la taille et la forme ?

Oui, nous prenons en charge une personnalisation complète basée sur des dessins ou des échantillons.

05.Quel est le prix de la cible de pulvérisation de tungstène ?

Le prix dépend de la pureté, de la taille et de la quantité. Contactez-nous pour un devis précis.

 

 

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Pour recevoir un devis rapide et précis, veuillez nous envoyer :

● Taille et forme de la cible

● Pureté requise

● Quantité

● Application (semiconducteur/revêtement/solaire)

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